四氟化碳是一種鹵代烴，化學(xué)式CF4。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機(jī)化合物。零下198 °C時(shí)，四氟化碳具有單斜的結(jié)構(gòu)。常溫常壓下穩(wěn)定，避免強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。不燃?xì)怏w，遇高熱后容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險(xiǎn)?；瘜W(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不燃。常溫下只有液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)的不燃?xì)怏w專用庫(kù)房。遠(yuǎn)離火種、熱源。庫(kù)溫不宜超過30℃。應(yīng)與易（可）燃物、氧化劑分開存放，切忌混儲(chǔ)。儲(chǔ)區(qū)應(yīng)備有泄漏應(yīng)急處理設(shè)備。是微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣及四氟甲烷高純氣、高純氧的混合氣，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。